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        當前位置:首頁產品中心光譜系統顯微缺陷膜厚橢偏儀 FE-5000/5000S

        橢偏儀 FE-5000/5000S

        產品簡介

        ●可在紫外和可見(250至800nm)波長區域中測量橢圓參數

        ●可分析納米級多層薄膜的厚度

        ●可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜

        ●通過可變反射角測量,可詳細分析薄膜

        ●通過創建光學常數數據庫和追加菜單注冊功能,增強操作便利性

        ●通過層膜貼合分析的光學常數測量可控制膜厚度/膜質量

        產品型號:
        更新時間:2025-05-07
        廠商性質:生產廠家
        訪問量:498
        詳細介紹在線留言

        產品信息

        測量項目

        測量橢圓參數(TANψ,COSΔ)

        光學常數(n:折射率,k:消光系數)分析

        薄膜厚度分析

         

        用途

        半導體晶圓
        柵氧化膜,氮化膜
        SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN
        光學常數(波長色散)

        復合半導體
        AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅

        FPD
        取向膜
        等離子顯示器用ITO、MgO等

        各種新材料
        DLC(類金剛石碳)、超導薄膜、磁頭薄膜

        光學薄膜
        TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜

        光刻領域
        g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長的n、k評估

         

        原理

        包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對于反射光的橢圓偏振光進行測量。s波和p波的位相和振幅獨立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數,即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
        橢偏儀 FE-5000/5000S

        產品規格

        型號FE-5000SFE-5000
        測量樣品反射測量樣品
        樣品尺寸100×100毫米200×200毫米
        測量方法旋轉分析儀方法*1
        測量膜厚范圍(ND)0.1納米-
        入射(反射)的角度范圍45至90°45至90°
        入射(反射)的角度驅動方式自動標志桿驅動方法
        入射點直徑*2關于φ2.0關于φ1.2sup*3
        tanψ測量精度±0.01以下
        cosΔ測量精度±0.01以下
        薄膜厚度的可重復性0.01%以下*4
        測定波長范圍*5300至800納米250至800納米
        光譜檢測器多色儀(PDA,CCD)
        測量用光源高穩定性氙燈*6
        平臺驅動方式手動手動/自動
        裝載機兼容不可
        尺寸,重量650(W)×400(D)×560(H)mm
        約50公斤
        1300(W)×900(D)×1750(H)mm
        約350公斤*7
        軟件
        分析最小二乘薄膜分析(折射率模型函數,Cauchy色散方程模型方程,nk-Cauchy色散模型分析等)
        理論方程分析(體表面nk分析,角度依賴同時分析)

        *1可以驅動偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。
        *2取決于短軸?角度。
        *3對應微小點(可選)
        *4它是使用VLSI標準SiO2膜(100nm)時的值。
        *5可以在此波長范圍內進行選擇。
        *6光源因測量波長而異。
        *7選擇自動平臺時的值。

        測量示例

        以梯度模型分析ITO結構[FE-0006]

        作為用于液晶顯示器等的透明電極材料ITO(氧化銦錫),在成膜后的退火處理(熱處理)可改善其導電性和色調。此時,氧氣狀態和結晶度也發生變化,但是這種變化相對于膜的厚度是逐漸變化的,不能將其視為具有光學均勻組成的單層膜。
        以下介紹對于這種類型的ITO,通過使用梯度模型,從上界面和下界面的nk測量斜率。

        橢偏儀 FE-5000/5000S

        橢偏儀 FE-5000/5000S

        考慮到表面粗糙度測量膜厚度值[FE-0008]

        當樣品表面存在粗糙度(Roughness)時,將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“粗糙層",可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。

         

         

        使用非干涉層模型測量封裝的有機EL材料[FE-0011]

        有機EL材料易受氧氣和水分的影響,并且在正常大氣條件下它們可能會發生變質和損壞。因此,在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態下通過玻璃測量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

        橢偏儀 FE-5000/5000S

        橢偏儀 FE-5000/5000S

        使用多點相同分析測量未知的超薄nk[FE-0014]

        為了通過擬合最小二乘法來分析膜厚度值(d)需要材料nk。如果nk未知,則d和nk都被分析為可變參數。然而,在d為100nm或更小的超薄膜的情況下,d和nk是無法分離的,因此精度將降低并且將無法求出精確的d。在這種情況下,測量不同d的多個樣本,假設nk是相同的,并進行同時分析(多點相同分析),則可以高精度、精確地求出nk和d。

        橢偏儀 FE-5000/5000S

        橢偏儀 FE-5000/5000S


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